Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
jwri21_01_057	pdf	432 KB	50

タイトル	Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)
著者	OHMORI, Akira OHMORI, Akira
	PARK, Kyeung-Chae PARK, Kyeung-Chae
	ARATA, Yoshiaki ARATA, Yoshiaki
	INOUE, Katsunori INOUE, Katsunori
公開者	大阪大学溶接工学研究所
公開者の別表記	Welding Research Institute Osaka University
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
掲載誌名	Transactions of JWRI
巻	21
号	1
開始ページ	57
終了ページ	61
刊行年月	1992-06
ISSN	03874508
NCID	AA00867058
URL	http://hdl.handle.net/11094/10826
関連情報 (isversionof)	http://ci.nii.ac.jp/naid/110006486976
権利情報	本文データはCiNiiから複製したものである
言語	英語

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI.21(1) P.57-P.61
DC.title	Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)
DC.creator	OHMORI, Akira
	PARK, Kyeung-Chae
	ARATA, Yoshiaki
	INOUE, Katsunori
DC.publisher	大阪大学溶接工学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1992-06
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/10826
DC.rights	本文データはCiNiiから複製したものである
citation_title	Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)
citation_author	OHMORI, Akira
	PARK, Kyeung-Chae
	ARATA, Yoshiaki
	INOUE, Katsunori
citation_publisher	大阪大学溶接工学研究所
citation_language	英語
citation_date	1992-06
citation_journal_title	Transactions of JWRI
citation_volume	21
citation_issue	1
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citation_lastpage	61
citation_issn	03874508
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/10826