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ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
jwri21_01_057	pdf	なし	432 KB	84	2012.09.22

論文情報

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タイトル	Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)
著者	NRID 1000050029229 1000050029229 著者名 Ohmori, Akira
	著者名 Park, Kyeung-Chae
	著者名 Arata, Yoshiaki
	NRID 1000090029067 1000090029067 著者名 Inoue, Katsunori
出版者	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカ ダイガク ヨウセツ コウガク ケンキュウジョ
	Welding Research Institute Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	21(1)
ページ	57-61
刊行年月	1992-06
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/10826
DOI	https://doi.org/10.18910/10826
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.21 No.1 (1992-06)

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