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2022-08-15
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jwri21_01_057
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41
論文情報
タイトル
Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)
著者
Ohmori, Akira
Ohmori, Akira
Park, Kyeung-Chae
Park, Kyeung-Chae
Arata, Yoshiaki
Arata, Yoshiaki
Inoue, Katsunori
Inoue, Katsunori
公開者
大阪大学溶接工学研究所
公開者の別表記
Welding Research Institute Osaka University
公開者 (ヨミ)
オオサカ ダイガク ヨウセツ コウガク ケンキュウジョ
掲載誌名
Transactions of JWRI
巻
21
号
1
開始ページ
57
終了ページ
61
刊行年月
1992-06
ISSN
03874508
NCID
AA00867058
URL
http://hdl.handle.net/11094/10826
関連情報 (isversionof)
http://ci.nii.ac.jp/naid/110006486976
権利情報
本文データはCiNiiから複製したものである
言語
英語
カテゴリ
紀要論文 Departmental Bulletin Paper
Transactions of JWRI / Vol.21 No.1 (1992-06)
論文詳細を表示
著者版フラグ
publisher
NII資源タイプ
紀要論文
ローカル資源タイプ
紀要論文
dcmi資源タイプ
text
DCTERMS.bibliographicCitation
Transactions of JWRI.21(1) P.57-P.61
DC.title
Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)
DC.creator
Ohmori, Akira
Park, Kyeung-Chae
Arata, Yoshiaki
Inoue, Katsunori
DC.publisher
大阪大学溶接工学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
1992-06
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/10826
DC.rights
本文データはCiNiiから複製したものである
citation_title
Photoresponse of Plasma Sprayed TiO_2-Rutile Semiconductor(Physics, Process, Instruments & Measurements)
citation_author
Ohmori, Akira
Park, Kyeung-Chae
Arata, Yoshiaki
Inoue, Katsunori
citation_publisher
大阪大学溶接工学研究所
citation_language
英語
citation_date
1992-06
citation_journal_title
Transactions of JWRI
citation_volume
21
citation_issue
1
citation_firstpage
57
citation_lastpage
61
citation_issn
03874508
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/10826