フリーズ・ドライ法による高温起伝導体酸化物の作製

伊藤, 利道

大阪大学低温センターだより, 1992, 77, 5-8

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固定URL: https://hdl.handle.net/11094/11066

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
ltc077-05	pdf	なし	1.06 MB	414	2012.09.22

タイトル	フリーズ・ドライ法による高温起伝導体酸化物の作製
著者	NRID 1000000183004 1000000183004 著者名伊藤, 利道 ; イトウ, トシミチ
内容	研究ノート
出版者	大阪大学低温センター
出版者	オオサカダイガクテイオンセンター
収録物名	大阪大学低温センターだより
巻(号)	77
ページ	5-8
刊行年月	1992-01
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/11066
PISSN	03874419
NCID	AN00030246
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	大阪大学低温センターだより / No.77 (1992-01)

資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	大阪大学低温センターだより. 1992, 77, p. 5-8
DC.title	フリーズ・ドライ法による高温起伝導体酸化物の作製
DC.creator	伊藤, 利道
DC.creator	イトウ, トシミチ
DC.publisher	大阪大学低温センター
DC.publisher	オオサカダイガクテイオンセンター
DC.language' scheme='DCTERMS.RFC1766	日本語
DC.type' scheme='DCTERMS.DCMIType	text
DCTERMS.issued' scheme='DCTERMS.W3CDTF	1992-01
DC.description	研究ノート
DC.format	11066
citation_title	フリーズ・ドライ法による高温起伝導体酸化物の作製
citation_author	伊藤, 利道
citation_publisher	大阪大学低温センター
citation_language	日本語
citation_date	1992-01
citation_journal_title	大阪大学低温センターだより
citation_volume	77
citation_firstpage	5
citation_lastpage	8
citation_public_url	https://hdl.handle.net/11094/11066