Gas Tunnel Type Plasma Spraying of Silicon Carbide Films for Thermoelectric Applications

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
jwri34_02_041	pdf	354 KB	328

タイトル	Gas Tunnel Type Plasma Spraying of Silicon Carbide Films for Thermoelectric Applications
著者	FAHIM, F. Narges FAHIM, F. Narges
著者	KOBAYASHI, Akira KOBAYASHI, Akira
公開者	大阪大学接合科学研究所
公開者の別表記	Joining and Welding Research Institute, Osaka University
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクセツゴウカガクケンキュウジョ
掲載誌名	Transactions of JWRI
巻	34
号	2
開始ページ	41
終了ページ	43
刊行年月	2005-12
ISSN	03874508
NCID	AA00867058
URL	http://hdl.handle.net/11094/11462
言語	英語

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI.34(2) P.41-P.43
DC.title	Gas Tunnel Type Plasma Spraying of Silicon Carbide Films for Thermoelectric Applications
DC.creator	FAHIM, F. Narges
DC.creator	KOBAYASHI, Akira
DC.publisher	大阪大学接合科学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	2005-12
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/11462
citation_title	Gas Tunnel Type Plasma Spraying of Silicon Carbide Films for Thermoelectric Applications
citation_author	FAHIM, F. Narges
citation_author	KOBAYASHI, Akira
citation_publisher	大阪大学接合科学研究所
citation_language	英語
citation_date	2005-12
citation_journal_title	Transactions of JWRI
citation_volume	34
citation_issue	2
citation_firstpage	41
citation_lastpage	43
citation_issn	03874508
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/11462