シアン処理によるシリコン材料の界面制御と半導体デバイスの高性能化

高橋, 昌男

大阪大学低温センターだより, 2003, 122, 8-14

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固定URL: https://hdl.handle.net/11094/12011

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
ltc122-08	pdf	なし	708 KB	569	2012.09.22

タイトル	シアン処理によるシリコン材料の界面制御と半導体デバイスの高性能化
タイトル	シアンショリニヨルシリコンザイリョウノカイメンセイギョトハンドウタイデバイスノコウセイノウカ
著者	NRID 1000000188054 1000000188054 著者名高橋, 昌男 ; タカハシ, マサオ
内容	研究ノート
出版者	大阪大学低温センター
出版者	オオサカダイガクテイオンセンター
収録物名	大阪大学低温センターだより
巻(号)	122
ページ	8-14
刊行年月	2003-04
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/12011
PISSN	03874419
NCID	AN00030246
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	大阪大学低温センターだより / No.122 (2003-04)

資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	大阪大学低温センターだより. 2003, 122, p. 8-14
DC.title	シアン処理によるシリコン材料の界面制御と半導体デバイスの高性能化
DC.title	シアンショリニヨルシリコンザイリョウノカイメンセイギョトハンドウタイデバイスノコウセイノウカ
DC.creator	高橋, 昌男
DC.creator	タカハシ, マサオ
DC.publisher	大阪大学低温センター
DC.publisher	オオサカダイガクテイオンセンター
DC.language' scheme='DCTERMS.RFC1766	日本語
DC.type' scheme='DCTERMS.DCMIType	text
DCTERMS.issued' scheme='DCTERMS.W3CDTF	2003-04
DC.description	研究ノート
DC.format	12011
citation_title	シアン処理によるシリコン材料の界面制御と半導体デバイスの高性能化
citation_author	高橋, 昌男
citation_publisher	大阪大学低温センター
citation_language	日本語
citation_date	2003-04
citation_journal_title	大阪大学低温センターだより
citation_volume	122
citation_firstpage	8
citation_lastpage	14
citation_public_url	https://hdl.handle.net/11094/12011