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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
ltc062-11	pdf	265 KB	212	2012.09.22

論文情報

タイトル	Ge吸着によるSi(111)表面電子構造の変化
	Ge キュウチャク ニヨル Si(111) ヒョウメン デンシ コウゾウ ノ ヘンカ
著者	NRID 1000050189528 1000050189528 著者名 長谷川, 繁彦 ハセガワ, シゲヒコ
内容	研究ノート
出版者	大阪大学低温センター
	オオサカダイガク テイオンセンター
収録物名	大阪大学低温センターだより
巻	62
開始ページ	11
終了ページ	15
刊行年月	1988-04
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/12868
ISSN	03874419
NCID	AN00030246
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	大阪大学低温センターだより / No.62 (1988-04)

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