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2022-05-18
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ltc062-11
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205
論文情報
タイトル
Ge吸着によるSi(111)表面電子構造の変化
タイトル (ヨミ)
Ge キュウチャク ニヨル Si(111) ヒョウメン デンシ コウゾウ ノ ヘンカ
著者
長谷川, 繁彦
長谷川, 繁彦
著者 (ヨミ)
ハセガワ, シゲヒコ
内容
研究ノート
公開者
大阪大学低温センター
公開者 (ヨミ)
オオサカダイガク テイオンセンター
掲載誌名
大阪大学低温センターだより
巻
62
開始ページ
11
終了ページ
15
刊行年月
1988-04
ISSN
03874419
NCID
AN00030246
URL
http://hdl.handle.net/11094/12868
言語
日本語
カテゴリ
紀要論文 Departmental Bulletin Paper
大阪大学低温センターだより / No.62 (1988-04)
論文詳細を表示
著者版フラグ
publisher
NII資源タイプ
紀要論文
ローカル資源タイプ
紀要論文
dcmi資源タイプ
text
DCTERMS.bibliographicCitation
大阪大学低温センターだより.62 P.11-P.15
DC.title
Ge吸着によるSi(111)表面電子構造の変化
DC.creator
長谷川, 繁彦
DC.publisher
大阪大学低温センター
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
日本語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
1988-04
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/12868
DC.description
研究ノート
citation_title
Ge吸着によるSi(111)表面電子構造の変化
citation_author
長谷川, 繁彦
citation_publisher
大阪大学低温センター
citation_language
日本語
citation_date
1988-04
citation_journal_title
大阪大学低温センターだより
citation_volume
62
citation_firstpage
11
citation_lastpage
15
citation_issn
03874419
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/12868