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14605_Abstract pdf なし 119 KB 95 2014.06.09 要旨/Abstract
14605_Dissertation pdf なし 4.72 MB 75 2012.09.22 論文/Dissertation

論文情報

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タイトル
シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究
シリコン ヒョウメン ニ オケル ゲンシ ステップ ノ キョドウ ニ カンスル ケンキュウ
著者
NRID
1000090314426 1000090314426
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ksudoh ksudoh
Scopus Author ID
7006445778 7006445778
著者名
須藤, 孝一 ; スドウ, コウイチ ; Sudou, Kouichi
学位名
博士（工学）
学位授与年月日
1999-03-25
学位授与機関
大阪大学
研究科
工学
専攻
応用物理学
学位授与番号
甲第06874号
学位記番号
14605
言語
日本語
ハンドルURL
https://hdl.handle.net/11094/1474
DOI
https://doi.org/10.11501/3155359
アクセス権
open access
出版タイプ
Version of Record
カテゴリ
博士論文 本文あり / 工学研究科 / 1998年度
博士論文 / 工学研究科 / 1998年度