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(
2022-06-25
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https://doi.org/10.11501/3155359
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14605_要旨
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71
要旨/Abstract
14605_論文
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4.72 MB
60
論文/Dissertation
論文情報
タイトル
シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究
タイトル (ヨミ)
シリコン ヒョウメン ニ オケル ゲンシ ステップ ノ キョドウ ニ カンスル ケンキュウ
著者
須藤, 孝一
須藤, 孝一
著者の別表記
Sudou, Kouichi
著者 (ヨミ)
スドウ, コウイチ
著者所属研究科
工学
専攻
応用物理学
学位名
博士(工学)
学位授与年月日
1999-03-25
学位授与機関
大阪大学
学位授与番号
14401甲第06874号
学位記番号
14605
URL
http://hdl.handle.net/11094/1474
言語
日本語
DOI
info:doi/10.11501/3155359
カテゴリ
博士論文 本文あり / 工学研究科 / 1998年度
博士論文 / 工学研究科 / 1998年度
論文詳細を表示
著者版フラグ
ETD
NII資源タイプ
学位論文
ローカル資源タイプ
博士論文 本文あり
博士論文
dcmi資源タイプ
text
DC.title
シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究
DC.creator
須藤, 孝一
DC.creator
Sudou, Kouichi
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
日本語
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/1474
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
1999-03-25
DC.identifier
info:doi/10.11501/3155359
citation_title
シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究
citation_author
須藤, 孝一
citation_language
日本語
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/1474
citation_date
1999-03-25
citation_doi
info:doi/10.11501/3155359