シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究

資料種別: 博士論文本文あり Doctoral Thesis with Full Text
工学研究科 / Graduate School of Engineering

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
14605_要旨	pdf	119 KB	26	要旨/Abstract
14605_論文	pdf	4.72 MB	175	論文/Dissertation

タイトル	シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究
タイトル (ヨミ)	シリコンヒョウメンニオケルゲンシステップノキョドウニカンスルケンキュウ
著者	須藤, 孝一須藤, 孝一
著者の別表記	Sudou, Kouichi
著者 (ヨミ)	スドウ, コウイチ
著者所属研究科	工学
専攻	応用物理学
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	1999-03-25
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401甲第06874号
学位記番号	14605
URL	http://hdl.handle.net/11094/1474
言語	日本語
DOI	info:doi/10.11501/3155359

著者版フラグ	ETD
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文本文あり
ローカル資源タイプ	博士論文
dcmi資源タイプ	text
DC.title	シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究
DC.creator	須藤, 孝一
DC.creator	Sudou, Kouichi
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	日本語
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/1474
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1999-03-25
DC.identifier	info:doi/10.11501/3155359
citation_title	シリコン表面における原子ステップの挙動に関する研究
citation_author	須藤, 孝一
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citation_date	1999-03-25
citation_doi	info:doi/10.11501/3155359