Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures

森脇, 和幸

アクセス数:782件（2025-07-09 08:52 集計）

固定URL: https://hdl.handle.net/11094/1480

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
05682_Abstract	pdf	なし	137 KB	154	2014.08.04	要旨/Abstract
05682_Dissertation	pdf	なし	8.83 MB	156	2012.09.22	論文/Dissertation

タイトル	Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
	「ナノメートル構造素子作製のためのイオンビームリソグラフィ」
	ナノメートルコウゾウソシサクセイノタメノイオンビームリソグラフィ
著者	NRID 1000050322194 1000050322194 著者名森脇, 和幸 ; モリワキ, カズユキ ; Moriwaki, Kazuyuki
学位名	工学博士
学位授与年月日	1982-03-25
学位授与機関	大阪大学
研究科	基礎工学
専攻	物理系
学位授与番号	甲第02832号
学位記番号	05682
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/1480
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	博士論文本文あり / 基礎工学研究科 / 1981年度
カテゴリ	博士論文 / 基礎工学研究科 / 1981年度

資源タイプ	博士論文
ローカル資源タイプ	博士論文本文あり
ローカル資源タイプ	博士論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	大阪大学, 1982, 博士論文
DC.title	Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
	「ナノメートル構造素子作製のためのイオンビームリソグラフィ」
	ナノメートルコウゾウソシサクセイノタメノイオンビームリソグラフィ
DC.creator	森脇, 和幸
	モリワキ, カズユキ
	Moriwaki, Kazuyuki
DC.language' scheme='DCTERMS.RFC1766	英語
DC.type' scheme='DCTERMS.DCMIType	text
DCTERMS.issued' scheme='DCTERMS.W3CDTF	1982-03-25
DC.format	1480
citation_title	Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
citation_author	森脇, 和幸
citation_language	英語
citation_public_url	https://hdl.handle.net/11094/1480
citation_date	1982-03-25