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05682_Abstract pdf なし 137 KB 94 2014.08.04 要旨/Abstract
05682_Dissertation pdf なし 8.83 MB 95 2012.09.22 論文/Dissertation

論文情報

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タイトル
Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
「ナノメートル構造素子作製のためのイオンビームリソグラフィ」
ナノメートル コウゾウ ソシ サクセイ ノ タメ ノ イオンビームリソグラフィ
著者
NRID
1000050322194 1000050322194
著者名
森脇, 和幸 ; モリワキ, カズユキ ; Moriwaki, Kazuyuki
学位名
工学博士
学位授与年月日
1982-03-25
学位授与機関
大阪大学
研究科
基礎工学
専攻
物理系
学位授与番号
甲第02832号
学位記番号
05682
言語
英語
ハンドルURL
https://hdl.handle.net/11094/1480
アクセス権
open access
出版タイプ
Version of Record
カテゴリ
博士論文 本文あり / 基礎工学研究科 / 1981年度
博士論文 / 基礎工学研究科 / 1981年度