Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
05682_要旨	pdf	137 KB	45	要旨/Abstract
05682_論文	pdf	8.83 MB	54	論文/Dissertation

タイトル	Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
別タイトル	「ナノメートル構造素子作製のためのイオンビームリソグラフィ」
タイトル (ヨミ)	ナノメートルコウゾウソシサクセイノタメノイオンビームリソグラフィ
著者	森脇, 和幸森脇, 和幸
著者の別表記	Moriwaki, Kazuyuki
著者 (ヨミ)	モリワキ, カズユキ
著者所属研究科	基礎工学
専攻	物理系
学位名	工学博士
学位授与年月日	1982-03-25
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401甲第02832号
学位記番号	05682
URL	http://hdl.handle.net/11094/1480
言語	英語

著者版フラグ	ETD
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文本文あり
ローカル資源タイプ	博士論文
dcmi資源タイプ	text
DC.title	Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
DCTERMS.alternative	「ナノメートル構造素子作製のためのイオンビームリソグラフィ」
DC.creator	森脇, 和幸
DC.creator	Moriwaki, Kazuyuki
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/1480
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1982-03-25
citation_title	Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
citation_author	森脇, 和幸
citation_language	英語
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/1480
citation_date	1982-03-25