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2021-01-28
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05682_要旨
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要旨/Abstract
05682_論文
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8.83 MB
66
論文/Dissertation
論文情報
タイトル
Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
別タイトル
「ナノメートル構造素子作製のためのイオンビームリソグラフィ」
タイトル (ヨミ)
ナノメートル コウゾウ ソシ サクセイ ノ タメ ノ イオンビームリソグラフィ
著者
森脇, 和幸
森脇, 和幸
著者の別表記
Moriwaki, Kazuyuki
著者 (ヨミ)
モリワキ, カズユキ
著者所属研究科
基礎工学
専攻
物理系
学位名
工学博士
学位授与年月日
1982-03-25
学位授与機関
大阪大学
学位授与番号
14401甲第02832号
学位記番号
05682
URL
http://hdl.handle.net/11094/1480
言語
英語
カテゴリ
博士論文 本文あり / 基礎工学研究科 / 1981年度
博士論文 / 基礎工学研究科 / 1981年度
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著者版フラグ
ETD
NII資源タイプ
学位論文
ローカル資源タイプ
博士論文 本文あり
博士論文
dcmi資源タイプ
text
DC.title
Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
DCTERMS.alternative
「ナノメートル構造素子作製のためのイオンビームリソグラフィ」
DC.creator
森脇, 和幸
DC.creator
Moriwaki, Kazuyuki
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
英語
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/1480
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
1982-03-25
citation_title
Ion-Beam Lithography for Fabricating Devices with Nanometer Structures
citation_author
森脇, 和幸
citation_language
英語
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/1480
citation_date
1982-03-25