ようこそ ゲスト さん
雑誌ブラウズ
雑誌 全て
大阪大学 刊行物
ランキング
アクセスランキング
ダウンロードランキング
博士論文のみをさがす
このアイテムのアクセス数:
156
件
(
2021-04-16
08:02 集計
)
このアイテムへのリンクには次のURLをご利用ください:
https://doi.org/10.11501/3064572
このアイテムへのリンクには次のURLをご利用ください:http://hdl.handle.net/11094/1652
閲覧可能ファイル
ファイル
フォーマット
サイズ
閲覧回数
説明
10440_要旨
pdf
121 KB
263
要旨/Abstract
10440_論文
pdf
3.69 MB
853
論文/Dissertation
論文情報
タイトル
Si反転層内における電子移動度に関する研究
タイトル (ヨミ)
Siハンテンソウ ナイ ニ オケル デンシ イドウド ニ カンスル ケンキュウ
著者
正木, 和夫
正木, 和夫
著者の別表記
Masaki, Kazuo
著者 (ヨミ)
マサキ, カズオ
学位名
博士(工学)
学位授与年月日
1992-10-23
学位授与機関
大阪大学
学位授与番号
14401乙第05819号
学位記番号
10440
URL
http://hdl.handle.net/11094/1652
言語
日本語
DOI
info:doi/10.11501/3064572
カテゴリ
博士論文 本文あり / その他 / 1992年度
博士論文 / その他 / 1992年度
論文詳細を表示
著者版フラグ
ETD
NII資源タイプ
学位論文
ローカル資源タイプ
博士論文 本文あり
博士論文
dcmi資源タイプ
text
DC.title
Si反転層内における電子移動度に関する研究
DC.creator
正木, 和夫
DC.creator
Masaki, Kazuo
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
日本語
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/1652
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
1992-10-23
DC.identifier
info:doi/10.11501/3064572
citation_title
Si反転層内における電子移動度に関する研究
citation_author
正木, 和夫
citation_language
日本語
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/1652
citation_date
1992-10-23
citation_doi
info:doi/10.11501/3064572