このアイテムへのリンクには次のURLをご利用ください: https://doi.org/10.11501/3064572

このアイテムへのリンクには次のURLをご利用ください: https://hdl.handle.net/11094/1652

閲覧可能ファイル 

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
10440_Abstract	pdf	なし	121 KB	332	2014.08.04	要旨/Abstract
10440_Dissertation	pdf	なし	3.69 MB	1,247	2012.09.22	論文/Dissertation

論文情報

ファイル出力

タイトル	Si反転層内における電子移動度に関する研究
	Siハンテンソウ ナイ ニ オケル デンシ イドウド ニ カンスル ケンキュウ
著者	著者名 正木, 和夫 ; マサキ, カズオ ; Masaki, Kazuo
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	1992-10-23
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	乙第05819号
学位記番号	10440
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/1652
DOI	https://doi.org/10.11501/3064572
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	博士論文 本文あり / その他 / 1992年度
	博士論文 / その他 / 1992年度

ホームへ戻る