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11722_Abstract pdf なし 114 KB 73 2014.06.09 要旨/Abstract
11722_Dissertation pdf なし 2.84 MB 95 2012.09.22 論文/Dissertation

論文情報

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タイトル
Internal Stark Effect Caused by Inhomogeneous Distribution of Ionized Impurities in Highly Compensated Semiconductors
高補償度半導体におけるイオン化不純物の不均一分布による内部Stark効果
コウホショウド ハンドウタイ ニオケル イオンカ フジュンブツ ノ フキンイツ ブンプ ニヨル ナイブ Stark コウカ
著者
NRID
1000020288757 1000020288757
著者名
Harada, Yoshiyuki ; ハラダ, ヨシユキ ; 原田, 義之
学位名
博士（理学）
学位授与年月日
1995-03-23
学位授与機関
大阪大学
研究科
理学
専攻
物理学
学位授与番号
甲第05152号
学位記番号
11722
言語
英語
ハンドルURL
https://hdl.handle.net/11094/2134
DOI
https://doi.org/10.11501/3100504
アクセス権
open access
出版タイプ
Version of Record
カテゴリ
博士論文 本文あり / 理学研究科 / 1994年度
博士論文 / 理学研究科 / 1994年度