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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
jwri39_02_298	pdf	269 KB	149	2013.05.08

論文情報

タイトル	Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials
著者	NRID 1000000633661 1000000633661 著者名 Cho, Ken
	NRID 1000060432423 1000060432423 著者名 Takenaka, Kosuke
	NRID 1000080236108 1000080236108 著者名 Setsuhara, Yuichi
	NRID 1000090206293 1000090206293 著者名 Shiratani, Masaharu
	NRID 1000080437087 1000080437087 著者名 Sekine, Makoto
	NRID 1000080242824 1000080242824 著者名 Hori, Masaru
キーワード等	Inductively-coupled plasma
	Low-inductance antenna
	Low-damage process
	Hard x-ray photoelectron spectroscopy
出版者	大阪大学接合科学研究所
	オオサカ ダイガク セツゴウ カガク ケンキュウジョ
	Joining and Welding Research Institute, Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻	39
号	2
開始ページ	298
終了ページ	300
刊行年月	2010-12
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/24830
DOI	https://doi.org/10.18910/24830
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.39 No.2 (2010-12)

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