固定URL: https://doi.org/10.18910/24830

閲覧可能ファイル 

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
jwri39_02_298	pdf	なし	269 KB	237	2013.05.08

論文情報

ファイル出力 EndNote Basic出力 Mendeley出力

タイトル	Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials
著者	NRID 1000000633661 1000000633661 researchmap permalink choken choken Scopus Author ID 55535308400 55535308400 著者名 Cho, Ken
	NRID 1000060432423 1000060432423 researchmap permalink takenaka takenaka Scopus Author ID 18635173500 18635173500 著者名 Takenaka, Kosuke
	NRID 1000080236108 1000080236108 researchmap permalink y_setsuhara y_setsuhara Scopus Author ID 7004203671 7004203671 著者名 Setsuhara, Yuichi
	NRID 1000090206293 1000090206293 著者名 Shiratani, Masaharu
	NRID 1000080437087 1000080437087 著者名 Sekine, Makoto
	NRID 1000080242824 1000080242824 著者名 Hori, Masaru
キーワード等	Inductively-coupled plasma
	Low-inductance antenna
	Low-damage process
	Hard x-ray photoelectron spectroscopy
出版者	大阪大学接合科学研究所
	オオサカ ダイガク セツゴウ カガク ケンキュウジョ
	Joining and Welding Research Institute, Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	39(2)
ページ	298-300
刊行年月	2010-12
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/24830
DOI	https://doi.org/10.18910/24830
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.39 No.2 (2010-12)

ホームへ戻る