Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
jwri39_02_298	pdf	269 KB	121

タイトル	Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials
著者	Cho, Ken Cho, Ken
	Takenaka, Kosuke Takenaka, Kosuke
	Setsuhara, Yuichi Setsuhara, Yuichi
	Shiratani, Masaharu Shiratani, Masaharu
	Sekine, Makoto Sekine, Makoto
	Hori, Masaru Hori, Masaru
キーワード等	Inductively-coupled plasma
	Low-inductance antenna
	Low-damage process
	Hard x-ray photoelectron spectroscopy
公開者	大阪大学接合科学研究所
公開者の別表記	Joining and Welding Research Institute, Osaka University
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクセツゴウカガクケンキュウジョ
掲載誌名	Transactions of JWRI
巻	39
号	2
開始ページ	298
終了ページ	300
刊行年月	2010-12
ISSN	03874508
NCID	AA00867058
URL	http://hdl.handle.net/11094/24830
言語	英語
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	Transactions of JWRI / Vol.39 No.2 (2010-12)

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI.39(2) P.298-P.300
DC.title	Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials
DC.creator	Cho, Ken
	Takenaka, Kosuke
	Setsuhara, Yuichi
	Shiratani, Masaharu
	Sekine, Makoto
	Hori, Masaru
DC.publisher	大阪大学接合科学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	2010-12
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/24830
DC.subject	Inductively-coupled plasma
	Low-inductance antenna
	Low-damage process
	Hard x-ray photoelectron spectroscopy
citation_title	Effects of photon irradiation in UV and VUV regions during plasma processing of organic materials
citation_author	Cho, Ken
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	Setsuhara, Yuichi
	Shiratani, Masaharu
	Sekine, Makoto
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citation_date	2010-12
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citation_issue	2
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