光放射圧制御CMP加工に関する基礎的研究

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
17294_要旨	pdf	139 KB	32	要旨/Abstract
17294_論文	pdf	21.0 MB	608	論文/Dissertation

タイトル	光放射圧制御CMP加工に関する基礎的研究
別タイトル	Fundamental Study on Chemical Mechanical Polishing Controlled with Optical Radiation Pressure
タイトル (ヨミ)	ヒカリ　ホウシャアツ　セイギョ　CMP　カコウ　ニ　カンスル　キソテキ　ケンキュウ
著者	木村, 景一木村, 景一
著者 (ヨミ)	キムラ, ケイイチ
著者所属研究科	工学
専攻	機械システム工学
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	2002-09-25
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401甲第08763号
学位記番号	17294
URL	http://hdl.handle.net/11094/27635
言語	日本語
カテゴリ	博士論文本文あり / 工学研究科 / 2002年度
カテゴリ	博士論文 / 工学研究科 / 2002年度

著者版フラグ	ETD
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文本文あり
ローカル資源タイプ	博士論文
dcmi資源タイプ	text
DC.title	光放射圧制御CMP加工に関する基礎的研究
DCTERMS.alternative	Fundamental Study on Chemical Mechanical Polishing Controlled with Optical Radiation Pressure
DC.creator	木村, 景一
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	日本語
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/27635
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	2002-09-25
citation_title	光放射圧制御CMP加工に関する基礎的研究
citation_author	木村, 景一
citation_language	日本語
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/27635
citation_date	2002-09-25