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247
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(
2022-08-14
12:07 集計
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17294_要旨
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36
要旨/Abstract
17294_論文
pdf
21.0 MB
670
論文/Dissertation
論文情報
タイトル
光放射圧制御CMP加工に関する基礎的研究
別タイトル
Fundamental Study on Chemical Mechanical Polishing Controlled with Optical Radiation Pressure
タイトル (ヨミ)
ヒカリ ホウシャアツ セイギョ CMP カコウ ニ カンスル キソテキ ケンキュウ
著者
木村, 景一
木村, 景一
著者 (ヨミ)
キムラ, ケイイチ
著者所属研究科
工学
専攻
機械システム工学
学位名
博士(工学)
学位授与年月日
2002-09-25
学位授与機関
大阪大学
学位授与番号
14401甲第08763号
学位記番号
17294
URL
http://hdl.handle.net/11094/27635
言語
日本語
カテゴリ
博士論文 本文あり / 工学研究科 / 2002年度
博士論文 / 工学研究科 / 2002年度
論文詳細を表示
著者版フラグ
ETD
NII資源タイプ
学位論文
ローカル資源タイプ
博士論文 本文あり
博士論文
dcmi資源タイプ
text
DC.title
光放射圧制御CMP加工に関する基礎的研究
DCTERMS.alternative
Fundamental Study on Chemical Mechanical Polishing Controlled with Optical Radiation Pressure
DC.creator
木村, 景一
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
日本語
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/27635
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
2002-09-25
citation_title
光放射圧制御CMP加工に関する基礎的研究
citation_author
木村, 景一
citation_language
日本語
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/27635
citation_date
2002-09-25