シリコンおよびタンタル酸化膜の半導体回路素子への応用に関する研究

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
01028_要旨	pdf	181 KB	94	要旨/Abstract

タイトル	シリコンおよびタンタル酸化膜の半導体回路素子への応用に関する研究
著者	堀内, 司朗堀内, 司朗
著者 (ヨミ)	ホリウチ, シロウ
学位名	工学博士
学位授与年月日	1966-10-03
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401乙第00347号
学位記番号	01028
URL	http://hdl.handle.net/11094/29374
カテゴリ	博士論文 / その他 / 1966年度

著者版フラグ	none
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文
dcmi資源タイプ	text
DC.title	シリコンおよびタンタル酸化膜の半導体回路素子への応用に関する研究
DC.creator	堀内, 司朗
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/29374
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1966-10-03
citation_title	シリコンおよびタンタル酸化膜の半導体回路素子への応用に関する研究
citation_author	堀内, 司朗
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/29374
citation_date	1966-10-03