プラズマCVD窒化シリコン薄膜のGaAs集積回路への応用に関する研究

石井, 康信

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06317_Abstract pdf なし 173 KB 191 2014.05.26 要旨/Abstract  

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タイトル
プラズマCVD窒化シリコン薄膜のGaAs集積回路への応用に関する研究
著者
著者名
石井, 康信 ; イシイ, ヤスノブ
学位名
工学博士
学位授与年月日
1984-02-27
学位授与機関
大阪大学
学位授与番号
乙第03312号
学位記番号
06317
ハンドルURL
https://hdl.handle.net/11094/33627
アクセス権
open access
カテゴリ
博士論文 / その他 / 1983年度
注記
著者からインターネット公開の許諾が得られていないため、論文の要旨のみを公開しています。全文のご利用をご希望の場合は、大阪大学の博士論文についてをご参照ください。
Only the abstract of the doctoral thesis, instead of the full text, is available because consent from the author has not been obtained. If you would like to read the full text, please refer to Doctoral Theses of Osaka University.