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ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
jwri36_02_051	pdf	なし	886 KB	232	2012.09.22

論文情報

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タイトル	Formation of SiO₂ Scale in High-Temperature Oxidation of Wsi₂
著者	NRID 1000000161779 1000000161779 著者名 Kurokawa, Kazuya
	著者名 Shibayama, Akiko
	NRID 1000070110773 1000070110773 著者名 Kobayashi, Akira
キーワード等	WSi₂
	High-Temperature Oxidation
	Evaporation of WO₃
	Structure of Oxide Scale
	SiO₂ Scale
抄録	In order to clarify the relationship between evaporation of WO₃ and formation of a SiO₂ scale in WSi₂, high temperature oxidation tests of WSi₂ were carried out at the temperature range from 773 to 1773 K in air. The pronounced effect of the evaporation of WO₃ on the structure of oxide scale was found at temperatures higher than 1273 K, and a protective SiO₂ scale was formed above 1573 K. The requisite evaporation rate and the vapor pressure of WO₃ for the formation of a protective SiO₂ scale were estimated to be about 10⁻⁴kgm⁻²s⁻¹ and 10 Pa, respectively.
出版者	大阪大学接合科学研究所
	オオサカ ダイガク セツゴウ カガク ケンキュウジョ
	Joining and Welding Research Institute, Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	36(2)
ページ	51-55
刊行年月	2007-12
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/3766
DOI	https://doi.org/10.18910/3766
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.36 No.2 (2007-12)

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