シリコン－熱酸化膜系の界面原子構造と電気的性質に関する研究

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
11571_要旨	pdf	137 KB	65	要旨/Abstract

タイトル	シリコン－熱酸化膜系の界面原子構造と電気的性質に関する研究
著者	丹羽, 正昭丹羽, 正昭
著者 (ヨミ)	ニワ, マサアキ
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	1994-10-05
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401乙第06442号
学位記番号	11571
URL	http://hdl.handle.net/11094/39193

著者版フラグ	none
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文
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DC.title	シリコン－熱酸化膜系の界面原子構造と電気的性質に関する研究
DC.creator	丹羽, 正昭
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DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1994-10-05
citation_title	シリコン－熱酸化膜系の界面原子構造と電気的性質に関する研究
citation_author	丹羽, 正昭
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/39193
citation_date	1994-10-05