Modelling of Temperature and Flow Fields of RF Induction Plasma (I) : Preliminary Calculation for Low Temperature and High Flow Rate Case(Physics, Process, Instrument & Measurement)
Ushio, Masao; Matsuda, Fukuhisa; Kawano, Seishiro
Transactions of JWRI, 1991, 20(1), 1-8
アクセス数:124件（2025-07-06 12:32 集計）
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固定URL: https://doi.org/10.18910/4166
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説明 |
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jwri20_01_001
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なし
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521 KB |
66
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2012.09.22
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論文情報
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