角度分解X線光電子分光分析法によるSiO2/Si(100)系の評価 : 光電子回折および非弾性散乱過程の影響に関する研究

片山, 俊治

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14947_Abstract pdf なし 126 KB 204 2014.06.20 要旨/Abstract  

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タイトル
角度分解X線光電子分光分析法によるSiO2/Si(100)系の評価 : 光電子回折および非弾性散乱過程の影響に関する研究
著者
著者名
片山, 俊治 ; カタヤマ, トシハル
学位名
博士（工学）
学位授与年月日
1999-09-30
学位授与機関
大阪大学
研究科
工学
専攻
物質・生命工学
学位授与番号
甲第07092号
学位記番号
14947
ハンドルURL
https://hdl.handle.net/11094/42152
アクセス権
open access
カテゴリ
博士論文 / 工学研究科 / 1999年度
注記
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