角度分解X線光電子分光分析法によるSiO2/Si(100)系の評価 : 光電子回折および非弾性散乱過程の影響に関する研究

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14947_要旨	pdf	126 KB	94	要旨/Abstract

タイトル	角度分解X線光電子分光分析法によるSiO2/Si(100)系の評価 : 光電子回折および非弾性散乱過程の影響に関する研究
著者	片山, 俊治片山, 俊治
著者 (ヨミ)	カタヤマ, トシハル
著者所属研究科	工学
専攻	物質・生命工学
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	1999-09-30
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401甲第07092号
学位記番号	14947
URL	http://hdl.handle.net/11094/42152
カテゴリ	博士論文 / 工学研究科 / 1999年度

著者版フラグ	none
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文
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DC.title	角度分解X線光電子分光分析法によるSiO2/Si(100)系の評価 : 光電子回折および非弾性散乱過程の影響に関する研究
DC.creator	片山, 俊治
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/42152
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1999-09-30
citation_title	角度分解X線光電子分光分析法によるSiO2/Si(100)系の評価 : 光電子回折および非弾性散乱過程の影響に関する研究
citation_author	片山, 俊治
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/42152
citation_date	1999-09-30