フルバンドモンテカルロ法によるシリコン中の電子輸送に関する研究

國清, 辰也

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固定URL: https://hdl.handle.net/11094/44661

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18231_Abstract pdf なし 134 KB 328 2014.06.23 要旨/Abstract  

論文情報

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タイトル
フルバンドモンテカルロ法によるシリコン中の電子輸送に関する研究
著者
著者名
國清, 辰也 ; クニキヨ, タツヤ
学位名
博士（工学）
学位授与年月日
2004-01-23
学位授与機関
大阪大学
研究科
工学
学位授与番号
乙第08792号
学位記番号
18231
ハンドルURL
https://hdl.handle.net/11094/44661
アクセス権
open access
カテゴリ
博士論文 / 工学研究科 / 2003年度
注記
著者からインターネット公開の許諾が得られていないため、論文の要旨のみを公開しています。全文のご利用をご希望の場合は、大阪大学の博士論文についてをご参照ください。
Only the abstract of the doctoral thesis, instead of the full text, is available because consent from the author has not been obtained. If you would like to read the full text, please refer to Doctoral Theses of Osaka University.