極短紫外線縮小リソグラフィーのための斜め入射光による反射型マスクパターン転写特性に関する研究

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
19566_要旨	pdf	118 KB	59	要旨/Abstract

タイトル	極短紫外線縮小リソグラフィーのための斜め入射光による反射型マスクパターン転写特性に関する研究
著者	菅原, 稔菅原, 稔
著者 (ヨミ)	スガワラ, ミノル
著者所属研究科	基礎工学
専攻	システム創成
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	2005-03-25
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401甲第10573号
学位記番号	19566
URL	http://hdl.handle.net/11094/45951
カテゴリ	博士論文 / 基礎工学研究科 / 2004年度

著者版フラグ	none
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文
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DC.title	極短紫外線縮小リソグラフィーのための斜め入射光による反射型マスクパターン転写特性に関する研究
DC.creator	菅原, 稔
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/45951
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	2005-03-25
citation_title	極短紫外線縮小リソグラフィーのための斜め入射光による反射型マスクパターン転写特性に関する研究
citation_author	菅原, 稔
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citation_date	2005-03-25