Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)

このアイテムのアクセス数:95件（2019-01-20 13:52 集計）

このアイテムへのリンクには次のURLをご利用ください:http://hdl.handle.net/11094/4744

ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
jwri24_02_017	pdf	460 KB	89

タイトル	Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)
著者	Zhang, Jinqiu Zhang, Jinqiu
	Seto, Naoki Seto, Naoki
	Kamai, Masayoshi Kamai, Masayoshi
	Setsuhara, Yuichi Setsuhara, Yuichi
	Miyake, Shoji Miyake, Shoji
公開者	大阪大学溶接工学研究所
公開者の別表記	Welding Research Institute Osaka University
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
掲載誌名	Transactions of JWRI
巻	24
号	2
開始ページ	17
終了ページ	22
刊行年月	1995-12
ISSN	03874508
NCID	AA00867058
URL	http://hdl.handle.net/11094/4744
関連情報 (isversionof)	http://ci.nii.ac.jp/naid/110006485920
権利情報	本文データはCiNiiから複製したものである
言語	英語

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI.24(2) P.17-P.22
DC.title	Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)
DC.creator	Zhang, Jinqiu
	Seto, Naoki
	Kamai, Masayoshi
	Setsuhara, Yuichi
	Miyake, Shoji
DC.publisher	大阪大学溶接工学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1995-12
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/4744
DC.rights	本文データはCiNiiから複製したものである
citation_title	Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)
citation_author	Zhang, Jinqiu
	Seto, Naoki
	Kamai, Masayoshi
	Setsuhara, Yuichi
	Miyake, Shoji
citation_publisher	大阪大学溶接工学研究所
citation_language	英語
citation_date	1995-12
citation_journal_title	Transactions of JWRI
citation_volume	24
citation_issue	2
citation_firstpage	17
citation_lastpage	22
citation_issn	03874508
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/4744