Electrical Characterization of HfO2/Ge Structure Prepared by Photo-Assisted Metal-Organic Chemical Vapor Deposition

Lee, Hyun

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固定URL: https://hdl.handle.net/11094/49598

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
23016_Abstract	pdf	なし	717 KB	183	2014.08.27	要旨/Abstract

タイトル	Electrical Characterization of HfO2/Ge Structure Prepared by Photo-Assisted Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
タイトル	光-MOCVDを用いたHfO2/Geの構造の作製と電気的特性評価
著者	著者名 Lee, Hyun ; イ, ヒョン
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	2009-03-24
学位授与機関	大阪大学
研究科	基礎工学
専攻	システム創成
学位授与番号	甲第13505号
学位記番号	23016
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/49598
アクセス権	open access
カテゴリ	博士論文 / 基礎工学研究科 / 2008年度
注記	著者からインターネット公開の許諾が得られていないため、論文の要旨のみを公開しています。全文のご利用をご希望の場合は、大阪大学の博士論文についてをご参照ください。
注記	Only the abstract of the doctoral thesis, instead of the full text, is available because consent from the author has not been obtained. If you would like to read the full text, please refer to Doctoral Theses of Osaka University.

資源タイプ	博士論文
ローカル資源タイプ	博士論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	大阪大学, 2009, 博士論文
DC.title	Electrical Characterization of HfO2/Ge Structure Prepared by Photo-Assisted Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
DC.title	光-MOCVDを用いたHfO2/Geの構造の作製と電気的特性評価
DC.creator	Lee, Hyun
DC.creator	イ, ヒョン
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DCTERMS.issued' scheme='DCTERMS.W3CDTF	2009-03-24
DC.format	49598
citation_title	Electrical Characterization of HfO2/Ge Structure Prepared by Photo-Assisted Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
citation_author	Lee, Hyun
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citation_date	2009-03-24