Vapor Infiltration Technique for Mesostructured Silica Films : Synthesis, Modification and Characterization

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
23003_要旨	pdf	657 KB	13	要旨/Abstract

タイトル	Vapor Infiltration Technique for Mesostructured Silica Films : Synthesis, Modification and Characterization
別タイトル	蒸気浸透法によるメソポーラスシリカ薄膜の合成、修飾、キャラクタリゼーション
著者	丸尾, 鷹則丸尾, 鷹則
著者 (ヨミ)	マルオ, タカノリ
著者所属研究科	基礎工学
専攻	物質創成
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	2009-03-24
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	14401甲第13492号
学位記番号	23003
URL	http://hdl.handle.net/11094/49622
カテゴリ	博士論文 / 基礎工学研究科 / 2008年度

著者版フラグ	none
NII資源タイプ	学位論文
ローカル資源タイプ	博士論文
dcmi資源タイプ	text
DC.title	Vapor Infiltration Technique for Mesostructured Silica Films : Synthesis, Modification and Characterization
DCTERMS.alternative	蒸気浸透法によるメソポーラスシリカ薄膜の合成、修飾、キャラクタリゼーション
DC.creator	丸尾, 鷹則
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/49622
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	2009-03-24
citation_title	Vapor Infiltration Technique for Mesostructured Silica Films : Synthesis, Modification and Characterization
citation_author	丸尾, 鷹則
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/49622
citation_date	2009-03-24