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ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
jwri21_01_023	pdf	なし	405 KB	44	2012.09.22

論文情報

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タイトル	Amorphous Hydrogenated Silicon Film Deposited by Reactive Electron Cyclotron Resonance Plasma(Physics, Process, Instruments & Measurements)
著者	著者名 Chen, Wei
	NRID 1000040029286 1000040029286 著者名 Miyake, Shoji
	著者名 Ariyasu, Tomio
出版者	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカ ダイガク ヨウセツ コウガク ケンキュウジョ
	Welding Research Institute Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	21(1)
ページ	23-28
刊行年月	1992-06
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/5795
DOI	https://doi.org/10.18910/5795
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.21 No.1 (1992-06)

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