固定URL: https://doi.org/10.18910/5958

閲覧可能ファイル 

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
jwri17_02_335	pdf	なし	1.09 MB	91	2012.09.22

論文情報

ファイル出力 EndNote Basic出力 Mendeley出力

タイトル	Production Method of High Purity Copper for Semiconductor Use and Evaluation of the Quality (Report I)(Materials, Metallurgy & Weldability)
著者	著者名 Mori, Satoshi
	著者名 Ono, Toshiaki
	著者名 Uchiyama, Naoki
	著者名 Nakane, Morihisa
	著者名 Arata, Yoshiaki
	NRID 1000050029229 1000050029229 著者名 Ohmori, Akira
出版者	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカ ダイガク ヨウセツ コウガク ケンキュウジョ
	Welding Research Institute of Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	17(2)
ページ	335-345
刊行年月	1988-12
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/5958
DOI	https://doi.org/10.18910/5958
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.17 No.2 (1988-12)

ホームへ戻る