Production Method of High Purity Copper for Semiconductor Use and Evaluation of the Quality (Report I)(Materials, Metallurgy & Weldability)

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
jwri17_02_335	pdf	1.09 MB	39

タイトル	Production Method of High Purity Copper for Semiconductor Use and Evaluation of the Quality (Report I)(Materials, Metallurgy & Weldability)
著者	Mori, Satoshi Mori, Satoshi
	Ono, Toshiaki Ono, Toshiaki
	Uchiyama, Naoki Uchiyama, Naoki
	Nakane, Morihisa Nakane, Morihisa
	Arata, Yoshiaki Arata, Yoshiaki
	Ohmori, Akira Ohmori, Akira
公開者	大阪大学溶接工学研究所
公開者の別表記	Welding Research Institute of Osaka University
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
掲載誌名	Transactions of JWRI
巻	17
号	2
開始ページ	335
終了ページ	345
刊行年月	1988-12
ISSN	03874508
NCID	AA00867058
URL	http://hdl.handle.net/11094/5958
関連情報 (isversionof)	http://ci.nii.ac.jp/naid/110006486817
権利情報	本文データはCiNiiから複製したものである
言語	英語

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI.17(2) P.335-P.345
DC.title	Production Method of High Purity Copper for Semiconductor Use and Evaluation of the Quality (Report I)(Materials, Metallurgy & Weldability)
DC.creator	Mori, Satoshi
	Ono, Toshiaki
	Uchiyama, Naoki
	Nakane, Morihisa
	Arata, Yoshiaki
	Ohmori, Akira
DC.publisher	大阪大学溶接工学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1988-12
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/5958
DC.rights	本文データはCiNiiから複製したものである
citation_title	Production Method of High Purity Copper for Semiconductor Use and Evaluation of the Quality (Report I)(Materials, Metallurgy & Weldability)
citation_author	Mori, Satoshi
	Ono, Toshiaki
	Uchiyama, Naoki
	Nakane, Morihisa
	Arata, Yoshiaki
	Ohmori, Akira
citation_publisher	大阪大学溶接工学研究所
citation_language	英語
citation_date	1988-12
citation_journal_title	Transactions of JWRI
citation_volume	17
citation_issue	2
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citation_lastpage	345
citation_issn	03874508
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/5958