ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)

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ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
jwri19_01_127	pdf	なし	402 KB	40	2012.09.22

タイトル	ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
著者	NRID 1000040029286 1000040029286 著者名 Miyake, S.
	著者名 Chen, W.
	著者名 Watanabe, N.
	著者名 Ariyasu, T.
出版者	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
	Welding Research Institute of Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	19(1)
ページ	127-132
刊行年月	1990-06
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/6132
DOI	https://doi.org/10.18910/6132
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	Transactions of JWRI / Vol.19 No.1 (1990-06)

資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI. 1990, 19(1), p. 127-132
DC.title	ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
DC.creator	Miyake, S.
	Chen, W.
	Watanabe, N.
	Ariyasu, T.
DC.publisher	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
	Welding Research Institute of Osaka University
DC.language' scheme='DCTERMS.RFC1766	英語
DC.type' scheme='DCTERMS.DCMIType	text
DCTERMS.issued' scheme='DCTERMS.W3CDTF	1990-06
DC.identifier	10.18910/6132
DC.format	application/pdf
citation_doi	https://doi.org/10.18910/6132
citation_title	ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
citation_author	Miyake, S.
	Chen, W.
	Watanabe, N.
	Ariyasu, T.
citation_publisher	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
	Welding Research Institute of Osaka University
citation_language	英語
citation_date	1990-06
citation_journal_title	Transactions of JWRI
citation_volume	19
citation_issue	1
citation_firstpage	127
citation_lastpage	132
citation_public_url	https://hdl.handle.net/11094/6132
citation_doi_detail	10.18910/6132