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2022-06-25
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jwri19_01_127
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31
論文情報
タイトル
ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
著者
Miyake, S.
Miyake, S.
Chen, W.
Chen, W.
Watanabe, N.
Watanabe, N.
Ariyasu, T.
Ariyasu, T.
公開者
大阪大学溶接工学研究所
公開者の別表記
Welding Research Institute of Osaka University
公開者 (ヨミ)
オオサカ ダイガク ヨウセツ コウガク ケンキュウジョ
掲載誌名
Transactions of JWRI
巻
19
号
1
開始ページ
127
終了ページ
132
刊行年月
1990-06
ISSN
03874508
NCID
AA00867058
URL
http://hdl.handle.net/11094/6132
関連情報 (isversionof)
http://ci.nii.ac.jp/naid/110006486905
権利情報
本文データはCiNiiから複製したものである
言語
英語
カテゴリ
紀要論文 Departmental Bulletin Paper
Transactions of JWRI / Vol.19 No.1 (1990-06)
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著者版フラグ
publisher
NII資源タイプ
紀要論文
ローカル資源タイプ
紀要論文
dcmi資源タイプ
text
DCTERMS.bibliographicCitation
Transactions of JWRI.19(1) P.127-P.132
DC.title
ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
DC.creator
Miyake, S.
Chen, W.
Watanabe, N.
Ariyasu, T.
DC.publisher
大阪大学溶接工学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
1990-06
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/6132
DC.rights
本文データはCiNiiから複製したものである
citation_title
ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
citation_author
Miyake, S.
Chen, W.
Watanabe, N.
Ariyasu, T.
citation_publisher
大阪大学溶接工学研究所
citation_language
英語
citation_date
1990-06
citation_journal_title
Transactions of JWRI
citation_volume
19
citation_issue
1
citation_firstpage
127
citation_lastpage
132
citation_issn
03874508
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/6132