ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
jwri19_01_127	pdf	402 KB	31

タイトル	ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
著者	Miyake, S. Miyake, S.
	Chen, W. Chen, W.
	Watanabe, N. Watanabe, N.
	Ariyasu, T. Ariyasu, T.
公開者	大阪大学溶接工学研究所
公開者の別表記	Welding Research Institute of Osaka University
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
掲載誌名	Transactions of JWRI
巻	19
号	1
開始ページ	127
終了ページ	132
刊行年月	1990-06
ISSN	03874508
NCID	AA00867058
URL	http://hdl.handle.net/11094/6132
関連情報 (isversionof)	http://ci.nii.ac.jp/naid/110006486905
権利情報	本文データはCiNiiから複製したものである
言語	英語
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	Transactions of JWRI / Vol.19 No.1 (1990-06)

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI.19(1) P.127-P.132
DC.title	ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
DC.creator	Miyake, S.
	Chen, W.
	Watanabe, N.
	Ariyasu, T.
DC.publisher	大阪大学溶接工学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1990-06
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/6132
DC.rights	本文データはCiNiiから複製したものである
citation_title	ECR Plasma in CH₄/H₂ Gas Mixture And Film Deposition(Surface Processing)
citation_author	Miyake, S.
	Chen, W.
	Watanabe, N.
	Ariyasu, T.
citation_publisher	大阪大学溶接工学研究所
citation_language	英語
citation_date	1990-06
citation_journal_title	Transactions of JWRI
citation_volume	19
citation_issue	1
citation_firstpage	127
citation_lastpage	132
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citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/6132