成長表面のラフネスのスケーリング

岩崎, 裕

大阪大学低温センターだより, 1993, 83, 8-10

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固定URL: https://hdl.handle.net/11094/6605

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
ltc083-08	pdf	なし	130 KB	265	2012.09.22

タイトル	成長表面のラフネスのスケーリング
タイトル	セイチョウヒョウメンノラフネスノスケーリング
著者	NRID 1000000029901 1000000029901 著者名岩崎, 裕 ; イワサキ, ヒロシ
内容	研究ノート
出版者	大阪大学低温センター
出版者	オオサカダイガクテイオンセンター
収録物名	大阪大学低温センターだより
巻(号)	83
ページ	8-10
刊行年月	1993-07
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/6605
PISSN	03874419
NCID	AN00030246
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	大阪大学低温センターだより / No.83 (1993-07)

資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	大阪大学低温センターだより. 1993, 83, p. 8-10
DC.title	成長表面のラフネスのスケーリング
DC.title	セイチョウヒョウメンノラフネスノスケーリング
DC.creator	岩崎, 裕
DC.creator	イワサキ, ヒロシ
DC.publisher	大阪大学低温センター
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DC.description	研究ノート
DC.format	6605
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