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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
jwri29_02_011	pdf	619 KB	39	2012.09.22

論文情報

タイトル	Optimization of (Al, Ti) N Thin Film Formation Process by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
著者	NRID 1000010294133 1000010294133 著者名 Takahashi, Makoto
	著者名 Li, Shuguang
	著者名 Imakita, Tomoyuki
	著者名 Imatani, Akihiro
	著者名 Inoue, Katsunori
出版者	大阪大学接合科学研究所
	オオサカ ダイガク セツゴウ カガク ケンキュウジョ
	Joining and Welding Research Institute, Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻	29
号	2
開始ページ	11
終了ページ	15
刊行年月	2000-12
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/6929
DOI	https://doi.org/10.18910/6929
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.29 No.2 (2000-12)

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