Plasma etching mechanisms in the fabrication of high-aspect-ratio microstructures in stacked layers of different materials

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固定URL: https://doi.org/10.18910/73566

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
30804_Abstract	pdf	なし	117 KB	1,188	2019.10.30
30804_Dissertation	pdf	なし	2.14 MB	2,776	2019.10.30

タイトル	Plasma etching mechanisms in the fabrication of high-aspect-ratio microstructures in stacked layers of different materials
	異種積層膜高アスペクト比微細構造プラズマエッチング機構の解明
	イシュセキソウマクコウアスペクトヒビサイコウゾウプラズマエッチングキコウノカイメイ
著者	著者名岩瀬, 拓 ; イワセ, タク
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	2019-09-25
学位授与機関	大阪大学
研究科	工学
専攻	マテリアル生産科学
学位授与番号	甲第20500号
学位記番号	30804
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/73566
DOI	https://doi.org/10.18910/73566
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	博士論文本文あり / 工学研究科 / 2019年度
カテゴリ	博士論文 / 工学研究科 / 2019年度

資源タイプ	博士論文
ローカル資源タイプ	博士論文本文あり
ローカル資源タイプ	博士論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	大阪大学, 2019, 博士論文
DC.title	Plasma etching mechanisms in the fabrication of high-aspect-ratio microstructures in stacked layers of different materials
	異種積層膜高アスペクト比微細構造プラズマエッチング機構の解明
	イシュセキソウマクコウアスペクトヒビサイコウゾウプラズマエッチングキコウノカイメイ
DC.creator	岩瀬, 拓
DC.creator	イワセ, タク
DC.language' scheme='DCTERMS.RFC1766	英語
DC.type' scheme='DCTERMS.DCMIType	text
DCTERMS.issued' scheme='DCTERMS.W3CDTF	2019-09-25
DC.identifier	10.18910/73566
DC.format	73566
citation_title	Plasma etching mechanisms in the fabrication of high-aspect-ratio microstructures in stacked layers of different materials
citation_author	岩瀬, 拓
citation_language	英語
citation_public_url	https://hdl.handle.net/11094/73566
citation_date	2019-09-25
citation_doi_detail	10.18910/73566
citation_doi	https://doi.org/10.18910/73566