Suboxide/subnitride formation on Ta masks during magnetic material etching by reactive plasmas

Li, Hu; Muraki, Yu; Karahashi, Kazuhiro et al.

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, 2015, 33(4), 040602

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JVacSciTechnolA_33_04_040602 pdf なし 1.04 MB 241 2021.02.05  

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