X-ray scattering from crystalline SiO2 in the thermal oxide layers on vicinal Si(111) surfaces

Shimura, T.; Misaki, H.; Umeno, M.

Acta Crystallographica. Section A, Foundations of Crystallography, 1996, 52, C465

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論文情報

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タイトル
X-ray scattering from crystalline SiO2 in the thermal oxide layers on vicinal Si(111) surfaces
著者
NRID
1000090252600 1000090252600
ORCID
0000-0002-8859-7010 0000-0002-8859-7010
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Scopus Author ID
35510328800 35510328800
著者名
Shimura, T.
著者名
Misaki, H.
NRID
1000050029071 1000050029071
著者名
Umeno, M.
内容
Shimura, T., Misaki, H. & Umeno, M. (1996). Acta Cryst. A52, C465, https://doi.org/10.1107/S0108767396080932.
出版者
International Union of Crystallography
収録物名
Acta Crystallographica. Section A, Foundations of Crystallography
巻(号)
52
ページ
C465
刊行年月
1996
言語
英語
ハンドルURL
https://hdl.handle.net/11094/85528
PISSN
01087673
NCID
AA10632017
関連情報 (isIdenticalTo)
DOI (出版社版)
https://doi.org/10.1107/S0108767396080932
アクセス権
open access
権利情報
© International Union of Crystallography
出版タイプ
Version of Record
カテゴリ
学術雑誌論文 Journal Article