Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
jwri19_01_119	pdf	1.3 MB	30

タイトル	Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)
著者	MATSUDA, Fukuhisa MATSUDA, Fukuhisa
	NAKATA, Kazuhiro NAKATA, Kazuhiro
	OHTSUBO, Takeshi OHTSUBO, Takeshi
公開者	大阪大学溶接工学研究所
公開者の別表記	Welding Research Institute of Osaka University
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
掲載誌名	Transactions of JWRI
巻	19
号	1
開始ページ	119
終了ページ	126
刊行年月	1990-06
ISSN	03874508
NCID	AA00867058
URL	http://hdl.handle.net/11094/8985
関連情報 (isversionof)	http://ci.nii.ac.jp/naid/110006486904
権利情報	本文データはCiNiiから複製したものである
言語	英語

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI.19(1) P.119-P.126
DC.title	Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)
DC.creator	MATSUDA, Fukuhisa
	NAKATA, Kazuhiro
	OHTSUBO, Takeshi
DC.publisher	大阪大学溶接工学研究所
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1990-06
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/8985
DC.rights	本文データはCiNiiから複製したものである
citation_title	Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)
citation_author	MATSUDA, Fukuhisa
	NAKATA, Kazuhiro
	OHTSUBO, Takeshi
citation_publisher	大阪大学溶接工学研究所
citation_language	英語
citation_date	1990-06
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citation_volume	19
citation_issue	1
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citation_lastpage	126
citation_issn	03874508
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/8985