Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)

Matsuda, Fukuhisa; Nakata, Kazuhiro; Ohtsubo, Takeshi

Transactions of JWRI, 1990, 19(1), 119-126

アクセス数:286件（2025-07-19 08:20 集計）

固定URL: https://doi.org/10.18910/8985

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
jwri19_01_119	pdf	なし	1.30 MB	90	2012.09.22

タイトル	Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)
著者	NRID 1000090028994 1000090028994 著者名 Matsuda, Fukuhisa
	NRID 1000080112069 1000080112069 著者名 Nakata, Kazuhiro
	著者名 Ohtsubo, Takeshi
出版者	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
	Welding Research Institute of Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	19(1)
ページ	119-126
刊行年月	1990-06
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/8985
DOI	https://doi.org/10.18910/8985
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	Transactions of JWRI / Vol.19 No.1 (1990-06)

資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
DCMI資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	Transactions of JWRI. 1990, 19(1), p. 119-126
DC.title	Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)
DC.creator	Matsuda, Fukuhisa
	Nakata, Kazuhiro
	Ohtsubo, Takeshi
DC.publisher	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカダイガクヨウセツコウガクケンキュウジョ
	Welding Research Institute of Osaka University
DC.language' scheme='DCTERMS.RFC1766	英語
DC.type' scheme='DCTERMS.DCMIType	text
DCTERMS.issued' scheme='DCTERMS.W3CDTF	1990-06
DC.identifier	10.18910/8985
DC.format	8985
citation_title	Plasma Chemical Vapor Deposition of TiB_2(Surface Processing)
citation_author	Matsuda, Fukuhisa
	Nakata, Kazuhiro
	Ohtsubo, Takeshi
citation_publisher	大阪大学溶接工学研究所
citation_language	英語
citation_date	1990-06
citation_journal_title	Transactions of JWRI
citation_volume	19
citation_issue	1
citation_firstpage	119
citation_lastpage	126
citation_public_url	https://hdl.handle.net/11094/8985
citation_doi_detail	10.18910/8985
citation_doi	https://doi.org/10.18910/8985