Study on Ultra-Thin Silicon Dioxide Layer Formed by Nitric Acid Oxidation Method and Application to Ultra-low Power Poly-Si TFT
Kubota, Yasushi
アクセス数:612件（2025-07-12 19:45 集計）
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固定URL: https://hdl.handle.net/11094/24876
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閲覧可能ファイル
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フォーマット |
利用条件 |
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利用開始日 |
説明 |
information |
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25192_Abstract
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pdf
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なし
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915 KB |
112
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2017.02.22
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要旨/Abstract
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25192_Dissertation
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pdf
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なし
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5.26 MB |
327
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2013.05.21
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論文/Dissertation
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論文情報
ファイル出力
EndNote Basic出力
Mendeley出力
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| DCMI資源タイプ |
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| DCTERMS.bibliographicCitation |
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