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ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
ltc089-11	pdf	なし	1.16 MB	1,145	2012.09.22

論文情報

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タイトル	Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性
	Si/SiO2 カイメン ラフネス ノ トウケイ テキ セイシツ ト フラクタル セイ
著者	NRID 1000030243265 1000030243265 著者名 吉信, 達夫 ; ヨシノブ, タツオ
内容	研究ノート
出版者	大阪大学低温センター
	オオサカダイガク テイオンセンター
収録物名	大阪大学低温センターだより
巻(号)	89
ページ	11-14
刊行年月	1995-01
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/3780
PISSN	03874419
NCID	AN00030246
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	大阪大学低温センターだより / No.89 (1995-01)

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