Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
ltc089-11	pdf	1.16 MB	756

タイトル	Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性
タイトル (ヨミ)	Si/SiO2 カイメンラフネスノトウケイテキセイシツトフラクタルセイ
著者	吉信, 達夫吉信, 達夫
著者 (ヨミ)	ヨシノブ, タツオ
内容	研究ノート
公開者	大阪大学低温センター
公開者 (ヨミ)	オオサカダイガクテイオンセンター
掲載誌名	大阪大学低温センターだより
巻	89
開始ページ	11
終了ページ	14
刊行年月	1995-01
ISSN	03874419
NCID	AN00030246
URL	http://hdl.handle.net/11094/3780
言語	日本語
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
カテゴリ	大阪大学低温センターだより / No.89 (1995-01)

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	紀要論文
ローカル資源タイプ	紀要論文
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	大阪大学低温センターだより.89 P.11-P.14
DC.title	Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性
DC.creator	吉信, 達夫
DC.publisher	大阪大学低温センター
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	日本語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	1995-01
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/3780
DC.description	研究ノート
citation_title	Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性
citation_author	吉信, 達夫
citation_publisher	大阪大学低温センター
citation_language	日本語
citation_date	1995-01
citation_journal_title	大阪大学低温センターだより
citation_volume	89
citation_firstpage	11
citation_lastpage	14
citation_issn	03874419
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/3780