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2022-06-27
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ltc089-11
pdf
1.16 MB
941
論文情報
タイトル
Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性
タイトル (ヨミ)
Si/SiO2 カイメン ラフネス ノ トウケイ テキ セイシツ ト フラクタル セイ
著者
吉信, 達夫
吉信, 達夫
著者 (ヨミ)
ヨシノブ, タツオ
内容
研究ノート
公開者
大阪大学低温センター
公開者 (ヨミ)
オオサカダイガク テイオンセンター
掲載誌名
大阪大学低温センターだより
巻
89
開始ページ
11
終了ページ
14
刊行年月
1995-01
ISSN
03874419
NCID
AN00030246
URL
http://hdl.handle.net/11094/3780
言語
日本語
カテゴリ
紀要論文 Departmental Bulletin Paper
大阪大学低温センターだより / No.89 (1995-01)
論文詳細を表示
著者版フラグ
publisher
NII資源タイプ
紀要論文
ローカル資源タイプ
紀要論文
dcmi資源タイプ
text
DCTERMS.bibliographicCitation
大阪大学低温センターだより.89 P.11-P.14
DC.title
Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性
DC.creator
吉信, 達夫
DC.publisher
大阪大学低温センター
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
日本語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
1995-01
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/3780
DC.description
研究ノート
citation_title
Si/SiO2界面ラフネスの統計的性質とフラクタル性
citation_author
吉信, 達夫
citation_publisher
大阪大学低温センター
citation_language
日本語
citation_date
1995-01
citation_journal_title
大阪大学低温センターだより
citation_volume
89
citation_firstpage
11
citation_lastpage
14
citation_issn
03874419
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/3780