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閲覧可能ファイル 

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明
06568_Abstract	pdf	なし	185 KB	141	2014.08.04	要旨/Abstract
06568_Dissertation	pdf	なし	10.2 MB	255	2012.09.22	論文/Dissertation

論文情報

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タイトル	スパッタリングによる薄膜の形成とシリコンMOS半導体素子への応用に関する研究
	スパッタリング ニヨル ウスマク ノ ケイセイ ト シリコン MOS ハンドウタイ ソシ ヘ ノ オウヨウ ニ カンスル ケンキュウ
著者	NRID 1000010345168 1000010345168 著者名 芹川, 正 ; セリカワ, タダシ ; Serikawa, Tadashi
学位名	工学博士
学位授与年月日	1984-07-18
学位授与機関	大阪大学
学位授与番号	乙第03426号
学位記番号	06568
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/389
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	博士論文 本文あり / その他 / 1984年度
	博士論文 / その他 / 1984年度

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