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ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
jwri23_02_181	pdf	なし	2.12 MB	76	2012.09.22

論文情報

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タイトル	Laser Physical Vapor Deposition of Si₃N₄ and SiC, and Film Formation Mechanism(Materials, Metallurgy & Weldability)
著者	NRID 1000010144528 1000010144528 著者名 Katayama, Seiji
	著者名 Fushiya, Naoki
	NRID 1000020029119 1000020029119 著者名 Matsunawa, Akira
出版者	大阪大学溶接工学研究所
	オオサカ ダイガク ヨウセツ コウガク ケンキュウジョ
	Welding Research Institute Osaka University
収録物名	Transactions of JWRI
巻(号)	23(2)
ページ	181-189
刊行年月	1994-12
言語	英語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/6816
DOI	https://doi.org/10.18910/6816
PISSN	03874508
NCID	AA00867058
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	紀要論文 Departmental Bulletin Paper
	Transactions of JWRI / Vol.23 No.2 (1994-12)

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