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2021-03-06
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eme_20_02_079
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3.44 MB
4
論文情報
タイトル
Interference Exposure Fabrication of Blazed Grating by Phase-shifting Mask
著者
Ura, Shogo
Ura, Shogo
Kintaka, Kenji
Kintaka, Kenji
Awazu, Hideyuki
Awazu, Hideyuki
Nishio, Kenzo
Nishio, Kenzo
Awatsuji, Yasuhiro
Awatsuji, Yasuhiro
Nishii, Junji
Nishii, Junji
抄録
A simple interference exposure method using a phase-shifting mask was discussed on the basis of Fourier synthesis for fabricating blazed gratings. A phase-shifting mask was designed with 244 nm exposure-light wavelength to launch multiple diffraction beams so that resultant interference pattern fit to required optical intensity profile. Fine surface-relief pattern on Si02 mask for 3μm-period sawtooth optical-intensity profile was fabricated by electron-beam direct-writing lithography with 30 nm scanning step and relief height of 65 nm. Sawtooth-like intensity profile was demonstrated with theoretically predicted interference visibility. A UV photoresist was exposed through the fabricated phase-shifting mask and developed to form a blazed grating.
公開者
電気材料技術懇談会
公開者 (ヨミ)
デンキ ザイリョウ ギジュツ コンダンカイ
掲載誌名
電気材料技術雑誌
巻
20
号
2
開始ページ
79
終了ページ
82
刊行年月
2011-12-25
URL
http://hdl.handle.net/11094/76882
言語
英語
カテゴリ
本学関連学会 Related Societies
電気材料技術雑誌 / 第20巻 / 第2号
論文詳細を表示
著者版フラグ
publisher
NII資源タイプ
学術雑誌論文
ローカル資源タイプ
本学関連学会
dcmi資源タイプ
text
DCTERMS.bibliographicCitation
電気材料技術雑誌.20(2) P.79-P.82
DC.title
Interference Exposure Fabrication of Blazed Grating by Phase-shifting Mask
DC.creator
Ura, Shogo
Kintaka, Kenji
Awazu, Hideyuki
Nishio, Kenzo
Awatsuji, Yasuhiro
Nishii, Junji
DC.publisher
電気材料技術懇談会
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766
英語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF
2011-12-25
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI
http://hdl.handle.net/11094/76882
DCTERMS.abstract
A simple interference exposure method using a phase-shifting mask was discussed on the basis of Fourier synthesis for fabricating blazed gratings. A phase-shifting mask was designed with 244 nm exposure-light wavelength to launch multiple diffraction beams so that resultant interference pattern fit to required optical intensity profile. Fine surface-relief pattern on Si02 mask for 3μm-period sawtooth optical-intensity profile was fabricated by electron-beam direct-writing lithography with 30 nm scanning step and relief height of 65 nm. Sawtooth-like intensity profile was demonstrated with theoretically predicted interference visibility. A UV photoresist was exposed through the fabricated phase-shifting mask and developed to form a blazed grating.
citation_title
Interference Exposure Fabrication of Blazed Grating by Phase-shifting Mask
citation_author
Ura, Shogo
Kintaka, Kenji
Awazu, Hideyuki
Nishio, Kenzo
Awatsuji, Yasuhiro
Nishii, Junji
citation_publisher
電気材料技術懇談会
citation_language
英語
citation_date
2011-12-25
citation_journal_title
電気材料技術雑誌
citation_volume
20
citation_issue
2
citation_firstpage
79
citation_lastpage
82
citation_public_url
http://hdl.handle.net/11094/76882