湿潤オゾンによるイオン注入レジストの除去に関する研究

堀邊, 英夫; 山本, 雅史

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ファイル	フォーマット	サイズ	閲覧回数	説明
eme_21_01_031	pdf	5.29 MB	2

論文情報

タイトル	湿潤オゾンによるイオン注入レジストの除去に関する研究
別タイトル	Study on the Removal of Ion-implanted Resist Using Wet Ozone
タイトル (ヨミ)	シツジュン　オゾン　ニ　ヨル　イオン　チュウニュウ　レジスト　ノ　ジョキョ　ニ　カンスル　ケンキュウ
著者	堀邊, 英夫堀邊, 英夫
著者	山本, 雅史山本, 雅史
著者の別表記	Horibe, Hideo
著者の別表記	Yamamoto, Masashi
キーワード等	湿潤オゾン
	レジスト除去
	イオン注入レジスト
	ナノインデンテーション
	塑性変形硬さ
	wet ozone
	resist removal
	ion-implanted resist
	nanoindentation
	plastic deformation hardness
抄録	従来の薬液を使用したレジスト除去方法に代わり、環境負荷の少ない湿潤オゾン法を用いて、B、P、Asイオンが70KeVの加速エネルギーで5×1012から5×1015個/㎠注入されたノボラック系ポジ型レジストの除去を行った。イオン注入量が5×1013個/㎠以下のレジストはすべて除去でき、5×1015個/㎠のレジストはどのイオン種でも除去できなかった。5×1014個/㎠のイオン注入量において、Bイオン注入レジストのみ低速ながらも除去でき、P、Asイオン注入レジストは除去できなかった。この注入量において、Bイオン注入レジストの硬さは未注入レジストの約1.8倍、Pイオンでは約8倍、Asイオンでは約5倍であった。湿潤オゾンによる除去が可能な硬さの閾値は、未注入レジストの約2倍程度と予測される。注入イオンからレジストに与えられるエネルギーはB、P、Asイオンの順で表面側に集中し分布していた。レジストはイオン注入によって、OH基、CH基および01sが減少し、C=CやCls、冗共役系が増加する炭化または架橋により硬化したと推測される。
抄録	We removed B-, P-, and As-ion-implanted positive-tone novolak resists with an implantation dose of 5x1012 to 5x1015 atoms/cm2 at 70keV, using wet ozone. Ion-implanted resists with 5x1015 atoms/cm2 could not be removed, but resists implanted below 5x1013 atoms/cm2 could be removed. Resist implanted with B ions at 5xl014 atoms/cm2 was removed slowly, but resists implanted with P and As ions were not removed. The peak hardness of resist with B ions implanted at 5x1014 atoms/cm2 was 1.8 times greater than that of the non-implanted resist (AZ6112), that of the P-ion-implanted resist was eight times greater, and that of As-ion-implanted resist was five times greater. We determined that the hardness threshold of the resist that could be removed using wet ozone was almost 2 times higher than that of AZ6112. The ion-implanted resists were hardened by cross-linkage.
公開者	電気材料技術懇談会
公開者 (ヨミ)	デンキ　ザイリョウ　ギジュツ　コンダンカイ
掲載誌名	電気材料技術雑誌
巻	21
開始ページ	31
終了ページ	45
刊行年月	2012-09-30
URL	http://hdl.handle.net/11094/76894
言語	日本語
カテゴリ	本学関連学会 Related Societies
カテゴリ	電気材料技術雑誌 / 第21巻

著者版フラグ	publisher
NII資源タイプ	学術雑誌論文
ローカル資源タイプ	本学関連学会
dcmi資源タイプ	text
DCTERMS.bibliographicCitation	電気材料技術雑誌.21 P.31-P.45
DC.title	湿潤オゾンによるイオン注入レジストの除去に関する研究
DCTERMS.alternative	Study on the Removal of Ion-implanted Resist Using Wet Ozone
DC.creator	堀邊, 英夫
DC.creator	山本, 雅史
DC.creator	Horibe, Hideo
DC.creator	Yamamoto, Masashi
DC.publisher	電気材料技術懇談会
DC.language" scheme="DCTERMS.RFC1766	日本語
DCTERMS.issued" scheme="DCTERMS.W3CDTF	2012-09-30
DC.identifier" scheme="DCTERMS.URI	http://hdl.handle.net/11094/76894
DC.subject	湿潤オゾン
	レジスト除去
	イオン注入レジスト
	ナノインデンテーション
	塑性変形硬さ
	wet ozone
	resist removal
	ion-implanted resist
	nanoindentation
	plastic deformation hardness
DCTERMS.abstract	従来の薬液を使用したレジスト除去方法に代わり、環境負荷の少ない湿潤オゾン法を用いて、B、P、Asイオンが70KeVの加速エネルギーで5×1012から5×1015個/㎠注入されたノボラック系ポジ型レジストの除去を行った。イオン注入量が5×1013個/㎠以下のレジストはすべて除去でき、5×1015個/㎠のレジストはどのイオン種でも除去できなかった。5×1014個/㎠のイオン注入量において、Bイオン注入レジストのみ低速ながらも除去でき、P、Asイオン注入レジストは除去できなかった。この注入量において、Bイオン注入レジストの硬さは未注入レジストの約1.8倍、Pイオンでは約8倍、Asイオンでは約5倍であった。湿潤オゾンによる除去が可能な硬さの閾値は、未注入レジストの約2倍程度と予測される。注入イオンからレジストに与えられるエネルギーはB、P、Asイオンの順で表面側に集中し分布していた。レジストはイオン注入によって、OH基、CH基および01sが減少し、C=CやCls、冗共役系が増加する炭化または架橋により硬化したと推測される。
DCTERMS.abstract	We removed B-, P-, and As-ion-implanted positive-tone novolak resists with an implantation dose of 5x1012 to 5x1015 atoms/cm2 at 70keV, using wet ozone. Ion-implanted resists with 5x1015 atoms/cm2 could not be removed, but resists implanted below 5x1013 atoms/cm2 could be removed. Resist implanted with B ions at 5xl014 atoms/cm2 was removed slowly, but resists implanted with P and As ions were not removed. The peak hardness of resist with B ions implanted at 5x1014 atoms/cm2 was 1.8 times greater than that of the non-implanted resist (AZ6112), that of the P-ion-implanted resist was eight times greater, and that of As-ion-implanted resist was five times greater. We determined that the hardness threshold of the resist that could be removed using wet ozone was almost 2 times higher than that of AZ6112. The ion-implanted resists were hardened by cross-linkage.
citation_title	湿潤オゾンによるイオン注入レジストの除去に関する研究
citation_author	堀邊, 英夫
citation_author	山本, 雅史
citation_publisher	電気材料技術懇談会
citation_language	日本語
citation_date	2012-09-30
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citation_lastpage	45
citation_public_url	http://hdl.handle.net/11094/76894
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	レジスト除去
	イオン注入レジスト
	ナノインデンテーション
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	plastic deformation hardness

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