プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工に関する研究 -超薄膜SOI(Silicon on Insulator)ウエハの製作-

佐野, 泰久

Number of Access:1,012（2025-08-15 18:59 Counts）

Identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/11094/2809

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17395_Abstract pdf None 160 KB 174 2014.08.04 要旨/Abstract  
17395_Dissertation pdf None 19.6 MB 179 2012.09.22 論文/Dissertation  

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Title
プラズマCVM(Chemical Vaporization Machining)による超精密加工に関する研究 -超薄膜SOI(Silicon on Insulator)ウエハの製作-
プラズマ CVM Chemical Vaporization Machining ニヨル チョウ セイミツ カコウ ニ カンスル ケンキュウ チョウ ハクマク SOI Silicon on Insulator ウエハ ノ セイサク
Creator
NRID
1000040252598 1000040252598
ORCID
0000-0002-1767-922X 0000-0002-1767-922X
researchmap permalink
read0042804 read0042804
Scopus Author ID
7402344818 7402344818
CreatorName
佐野, 泰久 ; サノ, ヤスヒサ ; Sano, Yasuhisa
Degree Name
博士（工学）
Date of Granted
2003-01-24
Grantor
Osaka University
Faculty
工学
Grant ID
乙第08588号
Description Number
17395
Language
Japanese
Handle URL
https://hdl.handle.net/11094/2809
Access Rights
open access
oaire:version
Version of Record
Category
Doctoral Thesis with Full Text / Graduate School of Engineering / 2002
Doctoral Thesis / Graduate School of Engineering / 2002