Ion-Desorption and Photoemission Studies of NO, O2 and K Adsorbed Si(Ⅲ) Surfaces

坂本, 一之

Number of Access:1,607（2025-07-16 23:10 Counts）

Identifier to cite or link to this item: https://doi.org/10.11501/3075136

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11415_Abstract pdf None 135 KB 170 2014.06.09 要旨/Abstract  
11415_Dissertation pdf None 7.23 MB 196 2012.09.22 論文/Dissertation  

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Title
Ion-Desorption and Photoemission Studies of NO, O2 and K Adsorbed Si(Ⅲ) Surfaces
イオン脱離と光電子分光によるNO, O2, K 吸着 Si(111) 表面の研究
イオン リダツ ト コウデンシ ブンコウ ニ ヨル NO O2 K キュウチャク Si(Ⅲ) ヒョウメン ノ ケンキュウ
Creator
NRID
1000070261542 1000070261542
ORCID
0000-0001-9507-6435 0000-0001-9507-6435
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read0184558 read0184558
Scopus Author ID
7403538529 7403538529
CreatorName
坂本, 一之 ; サカモト, カズユキ ; Sakamoto, Kazuyuki
Degree Name
博士（理学）
Date of Granted
1994-03-25
Grantor
Osaka University
Faculty
基礎工学
Specialty
物理系
Grant ID
甲第05097号
Description Number
11415
Language
English
Handle URL
https://hdl.handle.net/11094/504
DOI
https://doi.org/10.11501/3075136
Access Rights
open access
oaire:version
Version of Record
Category
Doctoral Thesis with Full Text / Graduate School of Engineering Science / 1993
Doctoral Thesis / Graduate School of Engineering Science / 1993