固定URL: https://doi.org/10.18910/73492

閲覧可能ファイル 

ファイル	フォーマット	利用条件	サイズ	閲覧回数	利用開始日	説明	information
30730_Abstract	pdf	なし	187 KB	326	2019.10.30
30730_Dissertation	pdf	なし	8.06 MB	1,961	2019.10.30

論文情報

ファイル出力 EndNote Basic出力 Mendeley出力

タイトル	先端微細CMOSデバイスにおける高性能化プロセスと微細領域の結晶性評価に関する研究
	センタンビサイシーモスデバイスニオケルコウセイノウカプロセストビサイリョウイキノケッショウセイヒョウカニカンスルケンキュウ
著者	著者名 望月, 省吾 ; モチヅキ, ショウゴ
学位名	博士（工学）
学位授与年月日	2019-07-31
学位授与機関	大阪大学
研究科	基礎工学
専攻	システム創成
学位授与番号	甲第20435号
学位記番号	30730
言語	日本語
ハンドルURL	https://hdl.handle.net/11094/73492
DOI	https://doi.org/10.18910/73492
アクセス権	open access
出版タイプ	Version of Record
カテゴリ	博士論文 本文あり / 基礎工学研究科 / 2019年度
	博士論文 / 基礎工学研究科 / 2019年度

ホームへ戻る